用途金属（铝）、钨和电介质（氧化物）以及多晶硅等离子刻蚀（氯化物、氟化物和溴化物）电子回旋共振 (ECR) 刻蚀薄膜沉积 CVD、PECVD、ECRCVD、MOCVD溅射离子注入源，射束线泵送和站
特性与优势紧凑型设计，包括集成的控制器性自传感磁力轴承系统数字化 5 轴控制与现有涡轮泵相比振动级别降低了 50%可以配置为运行腐蚀性制程
数据 入口法兰尺寸 ISO250F / VG250 / ICF305 前级抽气口尺寸 KF40 抽速 N2 2650 ls-1 抽速 Ar 2300 ls-1 压缩比 N2/H2 >108 / 2 x 103 极限压力 10-7 Pa (10-9 Torr) 允许的前级压力 266 Pa (2 Torr) 大气流 N2 （仅水冷） 4000 sccm (6.76 Pam3s-1) 大气流 Ar （仅水冷） 2100 sccm (3.55 Pam3s-1) 额定速度 27700 rpm 启动时间